等離子清洗常見的清洗方式都有哪些呢？

　　等離子清洗技術已經逐漸滲透到我們的生活和工作中，并悄悄地改變了人們的生活質量。隨著等離子表面處理技術的快速發展，清洗機已廣泛應用于光學玻璃、汽車制造、紡織面料、電子電器、包裝印刷、塑料加工、化妝品等行業。

　　

　　等離子體的清洗方式分為化學清洗、物理清洗和物理加化學清洗。對于不同的清潔對象，可選擇O2、H2和Ar等藝術氣體進行短時間表面處理。

　　

　　一、什么是化學反應清洗：

　　

　　它采用等離子中的高活性自由基和材料表層的有機物進行化學反應，采用氧氣清洗，使非揮發性有機物變成揮發性形式，產生二氧化碳，一氧化碳和水。化學清洗的優勢是清洗速度高，選擇性好，對清洗有機污染物質更有效的。

　　

　　主要缺點是產生的氧化物可能會在材料表層再次形成。在導線鍵環節中，氧化物這一些缺點可以通過適當的工藝參數來避免。

　　

　　二、什么是物理反應清洗：

　　

　　利用等離子中的離子進行純物理沖擊，清除附著在材料表層的原子，氬氣用于清潔，氬氣用足夠的能量轟擊器件表層，足以清除產品表面的污垢。例如：聚合物中的大分子被分離成小分子并蒸發，并通過真空泵排出。

　　

　　同時，氬氣等離子清洗后，可以改變材料表層的微觀形式，使材料在分子級范圍內變得更加粗糙，可以大大提高表面活性，提升表層的粘結性能。

　　

　　氬氣等離子的優勢是清潔材料表層不會留下任何氧化物。缺點是過度腐蝕或污染物質顆粒可能在其他不希望區域重新積累，但這一些缺點可以通過詳細調整工藝參數來控制。

　　

　　三、在清洗過程中，可同時清洗物理化學進行反應：

　　

　　物理反應和化學反應在清洗中起著關鍵作用。如果在線等離子清洗環節中采用O2混合氣體，反應速率比單獨采用Ar或O2快。氬離子加速后，產生的動能可以提升氧離子的反應能力，因此物理化學方法可以清除污染嚴重的材料表層。